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サムスン日本研究所

【概要・特徴】
サムスングループの日本における研究開発機関。サムスンの中核研究所として、「エナジー・材料」、「家電」、「画像処理」、「光学・メカ」、「半導体」の5つの研究開発分野に取り組んでいます。サムスンの研究所の中で最大規模を誇り、敷地面積約7,200平方メートル、総床面積約19,000平方メートル、地上6階地下2階建ての先進インテリジェント機能を備えています。

【研究開発】
・半導体：最先端の微細化技術を用いたデバイスの回路設計をはじめとする研究開発や各種メモリの研究開発に取り組んでいます。回路の線幅を20nmから10nmにすることに成功しており、原価低減と生産性の向上を実現しています。
・エナジー・材料：モバイル機器に必須の高容量・高安全リチウムイオン二次電池およびセラミック材料、次世代ディスプレイ材料の研究開発を行っています。有機ELの分野では、形状可変が可能なディスプレイの素材研究および技術開発を行なっています。

【職場環境】
横浜研究所・大阪研究所の2拠点体制で、試作工作機（3Dプリンタ）・実験室（セラミックス）粒度計・環境試験室などの充実した施設と潤沢な資金を有し、長期的に研究開発を行える環境があります。また、同社の正規雇用労働者の中途採用比率は非常に高く、中途入社の方にも馴染み易い環境です。離職率は10％以下と、長期就業できる環境が整っています。