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華為技術日本株式会社
【千葉／中国】Hマイクロ・ナノ製造プロセスエンジニア（GaNデバイスプロセス方向）【エージェントサービス求人】
【千葉／中国】Hマイクロ・ナノ製造プロセスエンジニア（GaNデバイスプロセス方向）
■業務内容：【変更の範囲：会社の定める業務】
・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMPなどのマイクロ・ナノプロセスにおける主要な技術的ブレークスルーを担当し、全プロセスを形成する。
…-
給与
＜予定年収＞
900万円〜1,500万円
＜賃金形態＞
年俸制
＜賃金内訳＞
年額（基本給）：9,000,000円〜15,000,000円
＜月額＞
750,000円〜1,250,000円（12分割）
＜昇給有無＞
有
＜残業手当＞
有
＜給与補足＞
※給与詳細は、経験・スキルを考慮した上で決定
賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月... -
場所
＜勤務地詳細1＞
船橋ラボ
住所：千葉県船橋市鈴身町488-19
勤務地最寄駅：北総線／小室駅
受動喫煙対策：屋内喫煙可能場所あり
＜勤務地詳細2＞
中国
住所：海外 中国
受動喫煙対策：屋内全面禁煙 -
応募資格
＜最終学歴＞大学院、大学卒以上
＜応募資格/応募条件＞
■必須条件：
・理工学専攻、学士以上の者
・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP などの1つ以上の装置またはプロセスにおける3年以上の経験
・リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散またはCMP関連のプロセスおよび材料に精通している
情報提供元：
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